產(chan) 品列表PRODUCTS LIST
SXL間歇式高剪切分散乳化機，是化妝品膏霜類產(chan) 品的製造過程中*的一種設備，特別是在生產(chan) 高檔次護膚品或產(chan) 品時Z為(wei) 適用。鍋體(ti) 與(yu) 物料接觸部份全部采用不鏽鋼316L，使設備能夠達到GMP認證標準
銀漿研磨分散機,銀漿高剪切研磨分散機,銀漿超高速研磨分散機采用先進的三級定轉子技術，定轉子根據不同產(chan) 品的需求有粗，中，細，超細等多個(ge) 組合可供客戶選擇，為(wei) 了增加剪切效果，CIK工程師在超細齒前麵又加了一級三級錯齒的超細研磨頭，使銀漿超高速研磨分散機同時具備了研磨，分散，均質，乳化等多個(ge) 功能。可以將物料粒徑打的更細，分散的更均一。
高剪切粉液分散機GBI 2000適於(yu) 有一個(ge) 循環回路的批處理操作,直接安裝在容器底部。GBI 2000可吸入,泵送和在CIP條件下自動清洗。且擁有兩(liang) 級設計的。
NK2000係列在線式膠體(ti) 磨 研磨機專(zhuan) 門為(wei) 膠體(ti) 溶液生產(chan) 所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體(ti) 生產(chan) 。線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定子可以無限製的被調整到所需要的與(yu) 轉子之間的距離。在增強的流體(ti) 湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表麵拋光和結構材料，可以滿足不同行業(ye) 要求。
乳液三級高剪切均質機 乳化機具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為(wei) 0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩定性。該設備可以適用於(yu) 各種分散乳化工藝，也可用於(yu) 生產(chan) 包括對乳狀液,懸浮液和膠體(ti) 的均質混合。
實驗室膠體(ti) 磨專(zhuan) 為(wei) 實驗研發，模擬生產(chan) 流程，給量產(chan) 提供可靠地數據論證。該中試型機器雨大型量產(chan) 機型配置形同，切分散頭的種類機相應的線速度亦相同，中式過程中的工藝參數在量產(chan) 化之後不用重新調整，從(cong) 而將機器型號升級過程中的風險降到Z低。
CRS2000三級超高速高剪切分散機、乳化機、均質機、一體(ti) 機，其剪切速率可以超過100.00 rpm，轉子的速度可以達到40m/s。在該速度範圍內(nei) ，由剪切力所造成的湍流結合專(zhuan) 門研製的電機可以使粒徑範圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經分布更窄。由於(yu) 能量密度*,無需其他輔助分散設備,可以達到普通的高壓均質機的400BAR壓力下的顆粒大小.
化妝品分散機、乳化機、均質機CR2000係列具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為(wei) 0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩定性。該設備可以適用於(yu) 各種分散乳化工藝，也可用於(yu) 生產(chan) 包括對乳狀液,懸浮液和膠體(ti) 的均質混合。高剪切分散乳化機由定/轉子係統生的剪切力使得溶質轉移速度增加，從(cong) 而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。
