碳納米高剪切分散乳化機

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 【碳納米管導電漿料及其製備方法】

    碳納米管導電漿料及其製備方法

    碳納米管導電漿料主要由碳納米管、其他導電填料、分散助劑、和溶劑組成，其質量百分比組成為(wei) ：碳納米管：0.5~15%，其他導電物質0.1~2%，分散助劑：0.1~5%，其餘(yu) 為(wei) 溶劑。

    該碳納米管導電漿料製備方法為(wei) ：首先將分散助劑溶解在溶劑中，然後在攪拌條件下加入碳納米管和其他導電填料，待碳納米管和其他導電填料充分浸潤後，采用shsina高剪切分散乳化機對漿料進行研磨分散，幾小時後即可得到穩定分散的碳納米管導電漿料。本發明方法簡單，不破壞碳納米管結構和導電性，所製得的碳納米管導電漿料具有優(you) 良的導電性，且性質穩定均一，靜置3個(ge) 月後，漿料穩定性>90%。
           

【shsina高剪切分散乳化機在碳納米管漿料分散中的優(you) 勢】

    
   對於(yu) 碳納米管漿料以及其他鋰電池漿料的研磨分散，普遍存在著2個(ge) 難以解決(jue) 的問題：
  
   1、研磨的細度，傳(chuan) 統的設備研磨設備是通過刀頭去磨細，這樣經常會(hui) 破壞碳納米管結構和導電性，使物料變性。而shsina高剪切分散乳化機，細化物料更多的是通過物料與(yu) 物料直接的撞擊來完成研磨細化的功能，不會(hui) 破壞物料結構。

   2、容易形成二級團聚體(ti) ，在碳納米管粒徑細化之後，由於(yu) 分子之間的作用力，小的物料又會(hui) 二次團聚，從(cong) 而影響終產(chan) 品的物料粒徑以及分散的效果。shsina高剪切分散乳化機很好的克服了二級團聚的現象，shsina高剪切分散乳化機是研磨機和分散機一體(ti) 化的設備，在碳納米管漿料粒徑細化後，瞬間通過分散工作腔，進行分散，避免二次團聚的現象。
   
   NKD2000係列研磨分散設備是shsina（北京）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產(chan) 品，該機特別適合於(yu) 需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們(men) 將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們(men) 將三級變跟為(wei) 一級，然後在乳化頭上麵加配了膠體(ti) 磨磨頭，使物料可以先經過膠體(ti) 磨細化物料，然後再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體(ti) 磨可根據物料要求進行更換（我們(men) 提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） 
 

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限製的被調整到所需要的與(yu) 轉子之間的距離。在增強的流體(ti) 湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
    第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。 
             

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【碳納米高剪切分散乳化機的特點】

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。

②   定轉子被製成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限製的被調整到所需要的與(yu) 轉子之間的距離

④   在增強的流體(ti) 湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質量的表麵拋光和結構材料，可以滿足不同行業(ye) 的多種要求。
       

【分散機設備選型表】

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