研發用真空均質機，小型真空均質機

 研發用真空均質機，小型真空均質機，真空均質機，小型均質機，小型均質機用於(yu) 實驗室研發用，模擬工業(ye) 化生產(chan) ，為(wei) 工業(ye) 化生產(chan) 提供可靠的試驗數據。
  
  真空均質機可以有效的消除乳化過程中泡沫，可以是物料乳化的更*；真空均質機也可以用於(yu) 一些不易於(yu) 空氣接觸的物料（易燃易爆），規避風險，提高生產(chan) 的安全性。
                 
 小型真空均質機是由真空係統和均質機組成，一個(ge) 真空罐體(ti) 和管線式均質機相結合，真空罐內(nei) 可以根據物料的粘稠度來配置相應的攪拌機（普通攪拌或者刮壁攪拌），小型真空罐有進料口、觀察窗、放空閥等。小型管線式均質機為(wei) CR2000/4高剪切均質機，是一款小試和中試的乳化設備，CR2000/4設備轉速高達9000rpm，三級工作頭，采用德國博格曼雙端麵機械密封，乳化效果。

影響研發用真空均質機，小型真空均質機 分散乳化結果的因素有以下幾點

1 乳化頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次好）

2 乳化頭的剪切速率 （越大，效果越好）

3 乳化頭的齒形結構（分為(wei) 初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

4  物料在分散牆體(ti) 的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

5 循環次數（越多，效果越好，到設備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義(yi) 是兩(liang) 表麵之間液體(ti) 層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) =           v  速率 (m/s)   
                         g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決(jue) 於(yu) 以下因素：

– 轉子的線速率

– 在這種請況下兩(liang) 表麵間的距離為(wei) 轉子-定子 間距。 
shsina 定-轉子的間距範圍為(wei)  0.2 ~ 0.4 mm 

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60
                        

   ,真空均質機，小型均質機，北京J9集团專(zhuan) 業(ye) 從(cong) 事乳化設備的研發與(yu) 生產(chan) ，小型均質機在全國各著名高校以及研究所都有著廣泛的應用。