頭孢塞汙鈉研磨分散機

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{別名}

頭孢氨噻肟、氨噻肟頭孢菌素、頭孢泰克鬆、西孢克拉瑞、 頭孢噻肟、塞福隆；凱福隆；凱帝隆； 氨噻肟頭孢 菌素鈉;泰可欣;先鋒噻肟 、先鋒龍
【外文名】Cefotaxime Sodium , Claforan, CTX,Ceforan, HR-756, Zariviz 
【作用與(yu) 用途】 
本品第三代半合成頭孢菌素，抗菌譜比頭孢呋肟廣，對革蘭(lan) 陰性菌的作用更強，但對陽性球菌不如第代與(yu) 第二代頭孢菌素對綠膿杆菌與(yu) 厭氧菌僅(jin) 有低度抗菌作用.抗菌譜包括嗜血性流感杆菌、腸杆菌、沙門杆菌克雷白產(chan) 氣杆菌屬及奇異變形杆菌、奈瑟菌屬、葡萄球菌、肺炎球菌、鏈球菌等。臨(lin) 床上主要用於(yu) 各敏感菌的感染，如呼吸道、五官、腹腔、膽道、腦膜炎、淋病、泌尿係統感染、皮膚軟組織感染、創傷(shang) 及術後感染、敗血症等。

【用法用量】
1.肌注或靜注，成人，中等度感染，1g/次，1次/12小時；嚴(yan) 重感染8g～12g/日，分3～4次；兒(er) 童每日100mg～150mg/kg，分2～4次；新生兒(er) 每日50mg/kg，分2～4次。本品亦可供靜滴，宜用1g～2g溶於(yu) 生理鹽水或葡萄糖注射液中稀釋，在20～60分鍾內(nei) 滴注完畢。 
2.肌內(nei) 注射:成人一次0.5～1g，每日3～4次。靜脈滴注:(藥典規定靜脈滴注一日2～3g)臨(lin) 床常用每次1～2g，每日3～4次，必要時每4小時一次。 
小兒(er) :每日50～100mg/kg(體(ti) 重)，分3～4次給藥。 
頭孢塞汙鈉研磨分散機NKD2000係列研磨分散設備是shsina（北京）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產(chan) 品，該機特別適合於(yu) 需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們(men) 將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們(men) 將三級變跟為(wei) 一級，然後在乳化頭上麵加配了膠體(ti) 磨磨頭，使物料可以先經過膠體(ti) 磨細化物料，然後再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體(ti) 磨可根據物料要求進行更換（我們(men) 提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
NKD2000係列的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

②   定轉子被製成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限製的被調整到所需要的與(yu) 轉子之間的距離

④   在增強的流體(ti) 湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

• 高質量的表麵拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

技術參數